外媒EUV光刻机正在被抛弃

　　EUV光刻机被抛弃了？
　　当大多数人看到这个题目的时候，一定会觉得这是一个天大的玩笑。因为EUV光刻机是目前全球最先进、最精密的半导体设备，也是生产制造7nm及以下制程必不可少的设备，所以EUV光刻机生产落地那一刻就受到了各大芯片厂商的争相订购，像台积电、三星和英特尔等这些半导体头部企业也不例外。
　　但由于芯片规则一次又一次被修改，ASML不仅没有出货自由，甚至连外企在中国的分厂也不能购买EUV光刻机，这让韩企海力士难以接受，其大多数工厂都建在内地。
　　另外，早在2018年，我国芯片代工厂商中芯国际，也从ASML手中订购了一台当时最先进的EUV光刻机，由于众所周知的原因，至今也没有到货。尽管ASML总裁曾表示，不能出货给中国是因为受到了《瓦森纳协定》的约束，但也改变不了什么。毕竟，ASML生产线上还包含了美技术和零部件，老美不点头，就不能实现自由出货。
　　再加上，最近一大批欧美科技巨头的举动，把科技无国界的伪面具一次又一次地扯了下来，让很多国家和地区的人认清了现实，只有摆脱对EUV光刻机的依赖，另辟蹊径，才能不受制于人。于是，各大芯片厂商开始寻找可以替代EUV光刻机的新方案。
　　当然，ASML最不愿意看到的事情就是，EUV光刻机被抛弃，被替代，因为一旦有企业绕过EUV光刻机制造出高端芯片，那么ASML的EUV光刻机就将成为历史，自己的营收也会一落千丈，甚至还有可能被淘汰出局。
　　首先，自华为事件后，我国各科研机构和企业就开始重视对光刻机等高端设备的研发，像中科院在EUV光刻机光源、双工件台等方面接连突破；上海微电子2。5D3D先进封装光刻机也已经完成交付；国望光学也在光刻机曝光系统方面迈出了重要的一步；还有中微半导体自研的5nm高端刻蚀机；还有华为也已经全面进入芯片半导体领域内。
　　简单点来说，国内半导体产业集合了所有的资源和人才力量，势必要攻克光刻机的技术问题，打破海外企业在光刻机领域的封锁。
　　其次，ASML的竞争对手佳能也没有闲着。先是联合铠侠等厂商推出了NIL工艺，后又研发出新产品3D半导体光刻机。
　　据悉，佳能等推出的NIL工艺，可以绕过EUV光刻机，就能生产出5nm等制程的芯片。还有正在研发的3D半导体光刻机，也将于2023年的上半年面市。
　　除此之外，苹果、英特尔、华为、AMD等也在研发先进的芯片封装工艺，尤其是华为和苹果，前者明确表示，可以采用多核架构，用堆积、面积换性能的方式，用不那么先进的工艺也可以让华为的产品具有竞争力；苹果则已经成功推出了M1Ultra芯片。
　　最后就是，俄罗斯也在日前宣布，将首期投资6。7亿卢布研发X射线光刻机，有可能比ASML的EUV光刻机还要先进。
　　总而言之，只要ASML做不到自由出货EUV光刻机，那么其他国家和地区的芯片厂商就有可能找到替代EUV光刻机的方法。也正是因为如此，外媒才说EUV光刻机正在被抛弃！
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