国产光刻机的天要亮了

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　　我国在近几年来发展迅速，各类高新产业迎来蓬勃发展的阶段，在人工智能、5G通信技术、航空航天等等领域都足以与国际一流水平比肩，甚至在某些方面已经超越欧美一些西方国家。然而，随着老美对我国的半导体产业实行了断供之后，我国半导体产业缺芯少魂的问题也暴露出来。
　　芯片产业作为高新产业必不可少的运行核心，已经成为各国争相发展的目标。当今的科技之争，可以说谁能最先掌握芯片产业的主导权，谁就把控住当今科技发展的命脉。
　　老美除了在芯片代工上对我国实行断供之外，在制造芯片所必需的光刻设备上老美也对我国实行了出货限制。
　　在老美的一系列封锁下，不仅台积电无法为我们提供芯片代工，ASML（阿斯麦）也无法对我们自由出货。
　　芯片代工被限制我们可以自己生产，但生产芯片所必要的光刻设备被拦截，那就真是巧妇难为无米之炊了。
　　要知道，作为全球最顶尖的光刻设备制造商，ASML公司占全球光刻设备市场份额的75以上，EUV光刻机的制造更是由于其供应链的特殊性形成了垄断地位。是的，全球只有ASML能制造出EUV光刻机。
　　早在三年前，中芯国际就曾斥资10亿向ASML全款订购了一台EUV光刻机，但由于老美修改了芯片规则，这EUV台光刻机至今为止仍未能在我国境内落地。
　　我国如今已经成为全球规模最大的芯片消费市场，我国的芯片需求占全球50以上，集成电路进口总额占我国进口总额高达16，仅在去年一年我国芯片进口量就多达6354。8亿枚，耗资近4400亿美元，折合成人民币约29550亿元，这个数字令人咂舌。
　　我国在今年第一季度占ASML的出货占比升至34，成为第一大市场，在第一季度ASML向我国出货了23台光刻机。虽然最先进的EUV无法向我国出货，但是DUV光刻机还是可以自由出货的。
　　国产光刻再进一步取得突破
　　对于我国半导体产业所面临的困境，我国多家企业意识到自研的重要性，纷纷加大在半导体领域的布局。如华为在芯片被断供后就宣布全面进入半导体领域，旗下子公司哈勃就投资了许多国内的半导体相关企业。
　　此外，自研出芯片堆叠技术，并公布了芯片堆叠封装结构及其封装方法、电子设备专利。
　　近日我国光刻设备再传捷报，根据浙江省税务局网站消息，浙江启尔机电技术有限公司在浸润系统上进一步取得了技术突破。其高端集成电路装备已经迭代至第8代，能够实现对液体温度的高精度控制，将误差控制在正负0。001度以内。
　　自04年开始，启尔机电研发团队对光刻机浸液系统的基础研究和技术攻关已经进行了十余年，掌握与光刻机浸液系统直接相关的发明专利56项。
　　光刻机被称为现代光学工业之花，制造工艺相当复杂，而浸液系统就是浸没式光刻机的四大核心部件之一，这项技术在很长时间以来一直为少数国际巨头企业所掌握，如今启尔机电的技术突破可以说进一步为我们的光刻机国产化打下了基础。我国光刻机的突破进行到哪步了
　　要实现光刻机国产化，主要看曝光光学系统、激光器、物镜、双工件台、浸液系统以及高速高精度检测系统这六大核心部件和技术上是否突破。
　　除了启尔机电这次的浸液系统，我国在光刻核心技术上已经实现了多项关键性突破，分别是国望光学的投影物镜、国科精密的曝光光学系统、华卓精科的双工件台、东方晶源高速高精度检测系统以及科益宏源的ArF准分子激光器。
　　其中国望光学光刻机曝光系统生产基地项目也已经建设完成，宣布启动设备导入阶段，预计在2023年投入运行，为28nm及以下节点极大规模IC制造投影光刻机曝光光学系统产品的研发、设计与批量生产供货。写在最后
　　如今我们在关键的技术领域基本已经突破，剩下的就是磨合问题，相信在国家的扶持和各科研机构以及企业的共同努力下，我们的国产光刻机要突围很快就能实现。
　　对于我们的国产光刻机即将突围，大家有何想法，觉得我们的国产光刻机何时能推出商用，欢迎在评论区留下您的观点一起交流。