华为曝光新专利！涉足光刻设备技术，难不成它要自研光刻机了？

　　华为麒麟芯片曾一度是最先进的5GSOC芯片，可惜受到芯片规则影响，麒麟芯片无法生产成为绝唱。之所以不能生产，是因为制造环节被卡了脖子，其中关键设备EUV光刻机，就是核心技术之一。
　　自此华为芯片受限后，便全面入局半导体产业，积极研发新技术寻求突破。近日，华为又曝光了新专利，涉足光刻设备技术，难不成华为要自研光刻机了？
　　华为涉足光刻机领域
　　近日，网上曝光了华为的一项专利技术，涉足光刻机领域，引起了广泛关注。
　　据了解，该专利编号为CN115343915A，专利名为反射镜、光刻装置及其控制方法。根据专利摘要可知，该项专利技术与极紫外光刻机有关，可提供一种反射镜、光刻装置及其控制方法，能够解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题。
　　简单点来说，这个专利技术涉及的是极紫外光学领域，也就是说涉足EUV光刻机当中的光学系统领域。
　　然而，这新专利曝光后，又有网友扒拉出华为前几年在光刻机领域里的相关布局。比如，2020年7月份，华为招聘光刻工艺工程师，2016年华为曾申请过一种光刻设备和光刻系统的专利项目等。
　　看到这里，有人认为：华为或许从2016左右就开始布局光刻机领域，这让人不得不联想到，难不成华为要自研光刻机了？华为要自研光刻机么？
　　其实回答这个问题，笔者认为可以分为三个步骤来看：一是华为适不适合自研光刻机；二是华为要不要完全自研光刻机；三是华为目前的布局核心思想是什么。
　　一、华为适合自研么
　　从需求方面来说，华为急需芯片，特别是急需手机5G芯片。在芯片修改之后，华为已经处于生死存亡的关键时刻，因此不得不考虑全面进入芯片制造领域。
　　这其中，具有芯片之母称呼的光刻机，就是芯片制造环节的核心设备。也正因为这项核心技术未能彻底攻破，麒麟芯片才无法生产，因此，华为是迫切希望能够解决这一问题，自己研发光刻机也有足够的理由。
　　从研发实力方面来说，华为可能算是更符合自研的科企。华为每年的研发投入是营收的20以上，比如2021年，研发投入1427亿元占营收22。4。而相比研发光刻设备的上海微电子，10年研发投入6个亿的费用，可是高出好几百倍。
　　就拿ASML来说吧，一年的研发费用差不多为60亿欧元（折合470亿人民币），才持续保持自身技术的领先。华为的研发费用可是ASML的3倍，如果拿出其中三分之一放在光刻机研发上，也是有足够的实力搞自研。
　　在人才方面，华为拥有很多的科学家，比如：100多名化学家，700多名数学家，以及900多名物理学家。不仅如此，华为每年还向全球招收天才少年，积极扩充和培养自身科研团队。
　　因此，华为既有强烈的需求，又有强大的科研团队和大量的科研经费，相比其他科研公司来说，是更适合自研光刻机。
　　二、华为要不要完全自研光刻机
　　实事求是地说，想要完全自研光刻机，难度比想象的大。一台光刻机光零件都10万个，而且一些核心专利还掌握在ASML手里，想要自研出一套全新技术的光刻设备，投入的资源、耗费的精力都是难以估量的。
　　如果说，单凭华为大力投资研发，恐怕这种力度还是不足以支撑。
　　再说产业链的培养与扶持，要知道ASML的光刻设备，是有多个国家5W个公司共同参与努力的结果。这么庞大的产业链，如果需要重新培养和扶持，单凭华为一家企业整合资源去推进，还是有很大难度搞得定。
　　而且，研发出来后，还需芯片公司的验证，匹配基础材料、芯片生产线其他设备，才能形成芯片量产制造。
　　因此，要说华为花费大精力和资源，完全自研光刻机，其难度还是比想象的高很多，就显得不划算了。重要的是，这并不是一家企业单独搞的事情，也不是华为当务之急的事，它目前更重要的是活下去。
　　三、华为目前的布局核心思想是什么
　　即便半导体产业难以撼动，华为也会在该领域布局，进行技术专利储备。足以见得，华为目前布局的思想就像在围点攻坚，积极参与到核心技术的研发攻坚，助力国内半导体产业链的整体布局、突围。
　　这就好比华为在芯片领域里一样，涉足量子芯片、光子芯片、芯片叠加技术等领域，广泛储备专利技术。因为，华为清楚，只有坚持在半导体核心领域的研发攻坚，无论最终进展到了哪一步，都是一种进步或者说是成功。
　　可以说，华为入局光刻机领域，可在一定程度上加速技术的攻克，也会培养出更多高技术人才，想必这才是它的最初本意。
　　总结
　　整体来讲，华为早已入局光刻机领域，不仅储备了专利技术，还培养了大量的技术人才。只不过，华为并不会完全参与自研光刻机，毕竟，这本来就不是一家企业可独立完成的事。
　　不过，华为可能会专挑一些难度稍高的技术，进行研发攻坚，促进中企光刻设备整体研发进度。但是，不管怎么说，这也是一件难能可贵的事情了。