3年内突破光刻机，15年内破解所有芯片技术，我们真的可以吗？

　　我们要拥有自己的光刻机了？
　　在2021年中国企业未来发展论坛上，北大林毅夫教授说了这样一段话：
　　荷兰ASML公司的CEO担心，如果不卖给中国光刻机技术，中国三年内将自己掌握这门技术并制造出成本更低的光刻机，ASML到时将被挤出市场。
　　作为如今光刻机领域的霸主，荷兰ASML的此番担忧并不是杞人忧天。对于国外一些国家对中国的出口管制，他们的CEO维尼克毫不遮掩自己内心的忧虑，因为在他看来，这反而能够让中国更快的实现技术自主，也许将在短短的15年期间里就做出所有东西。
　　光和芯片是2018年突然兴起的领域，由于一些众所周知的原因，我国在这方面的发展并不顺畅，在国外某些势力的打压之下，我国很难在高端光刻机领域有所突破，即便是在芯片领域也举步维艰。
　　但是即便如此，维尼克依然做出了以上的结论，我们真的能如他所说的那样，3年突破光刻机，15年破解所有芯片技术吗？
　　如今世界早已进入了互联网时代，以前的传统经济产业比如石油已经逐渐被高科技所取代，芯片的重要性已经表现得越来越明显。而光刻机技术又是芯片产业中举足轻重的部分，可想而知如果能够突破光刻机，芯片技术将也会随之有大幅度的提升。
　　只是光刻机制造并不容易，甚至有人表示比原子弹还要难，尤其是在高端光刻机领域更是如此。
　　如果说目前在中端光刻机领域，日本的佳能和尼康还能与荷兰的ASML相抗衡，那么在高端光刻机领域，AMSL则当之无愧的处于垄断地位。
　　EUV光刻机是高端中的王者，由于其极为珍贵，所以被视为芯片领域中的掌上明珠。
　　当然它的出现集结了全球共同的智慧，包括荷兰在内的美国，德国，日本等科技强国都贡献了自己的一份力量。也正因为如此，EUV的身价才高不可攀，单价达到了1。2亿美元，让人瞠目结舌。
　　仅靠一个国家的力量是很难制造出高端光刻机的，这也是为什么人们一致认为光刻机很难制造的原因。
　　当然作为生产商也会考虑到经济因素，和原子弹相比，光刻机的制造显然没有那么迫切，所以制作成本也会成为制约其发展的一部分原因。
　　不过随着世界各国逐渐意识到科技振兴的重要性，光刻机也开始被一些国家尤其是美国所重视。
　　5月12日，美国通过了一个《无尽前沿法案》，这个法案主要针对科学领域。
　　目的是通过投资美国科创，创造高薪的美国制造业和高科技工作岗位，从而增强美国对中国及其他国家的竞争力。
　　同时为了遏制中国在此领域的发展，美国限制荷兰ASML对华出口EUV光刻机，想要以此打压中国。
　　虽然我们不得不承认美国的政策对中国科技创新有着很大的影响，但是这也激发了我们国人的斗志。
　　就像中国能够通过大力发展新能源汽车摆脱对国外进口石油的依赖一样，现在我们同样也能够大力自主发展芯片产业，力争不依靠任何国家的力量获得发展。
　　从目前来看，上海微电子厂商已经能够生产出28nm工艺的国产光刻机，基本上满足了我国中端芯片领域的需求，预计年底即可商用。
　　作为眼下唯一能够量产光刻机的厂家，上海微电子虽然和ASML有着很大的差距，但是相信经过不断地追赶，日后在高端芯片领域也一定能够有所突破，与ASML一较高低。
　　所以ASML的CEO担忧也不是不可能实现，毕竟15年的时间并不短，只要我们不停止研发的脚步，搞定光刻机甚至是芯片都是指日可待。
　　今日，中科院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室宣布在OPC这一关键技术上取得重要进展。
　　这项技术主要应用于虚拟边和像素化光掩模图形，叫做快速光学邻近修正技术。
　　据实验结果说明，光机所的OPC技术能够优化照明模式、晶圆的图形和工艺精度，实现光刻修正效率的大幅提升，从而在硬件不变的情况下，提升高端光刻机的分辨率。
　　而外媒对此的评价是：OPC技术或将延续摩尔定律，让已顶到天花板的传统芯片精度，再次得到工艺上的提升。
　　当然，要设备化以及商用还需要一段比较长的时间，因为科技创新无法依靠拼人口、赚快钱的模式去实现。
　　我们真的能3年突破光刻机，15年破解所有芯片技术吗？不如把答案交给时间，我相信我们一定可以的！